第260章 国产光刻机重大成功
第260章 国产光刻机重大成功
102所与沪市微电子研究所，加上全国三十七个科研单位、六十二个工厂，总共有两千余人参与研发制造，加上与asml交流的关键工台技术，历经六年时间，拆了六台光刻机，总投入高达数十亿美元，终于结出丰硕的成果。
1993年11月，193纳米氟化氩激光光刻机完成技术攻关。并通过国家论证。
型号有两款，代号分别为gk193bj型和gk193ty型。
gk193ty型为投影式光刻机，主要研发单位是沪市微电子研究所，工台关键技术是逆向asml pa3000光刻机，光源使用的是102所提供的氟化氩激光光源，透镜系统也是102所所设计制造的。
gk193ty型投影式光刻机优点是精度高，投影准确，控制性好，但缺点是效率不高，完成一块晶圆的光刻过程，需要的时间是步进式光刻机的数十倍。
在商用上面，投影式光刻机属于淘汰的技术，不过在不计较成本的军用上，或者高性能大型计算机上面，尚有用武之地。
而gk193bj步进式光刻机，主要技术来自与asml、西门子以及飞利浦交流的技术，主要研发单位是102所。
与投影式光刻机相反的是，步进式光刻机最大的好处就是在牺牲一定的稳定，保证良品率的前提下，具备相当高的光刻效率，最适合商用化，可以显著降低芯片的成本……
新光刻机的测试早就开始了，试验的制程是130纳米，finfet半导体结构，直接光刻。
而gk193ty投影式光刻机尚能保持42%的良品率。
用多重曝光技术探索65纳米制程，gk193bj步进式光刻机已经很无力了，良品率再次崩塌式下降，一块三英寸晶圆，几百块芯片，碰巧有一两块合格，良品率已经不足1%！
用130纳米制程制造的armv6处理器，速度直接飙升了1.5ghz，直接冲破了1ghz速度的大关。
甚至在45纳米制程上，步进式光刻机已经无用了，但gk193ty投影式光刻机仍然可以达到14%的良品率。
102所技术攻关团队继续向90纳米制程探索，gk193bj步进式光刻机成功完成90纳米制程的探索，不过良品率直接降到了32%。
而使用gk193ty投影式光刻机，完成90纳米制程的光刻，良品率可以上升两倍，达到67%。
事实证明finfet半导体结构，具备优良的物理性能，根本不需要改变就可以直接应用到130纳米。
45纳米制程已经是193纳米波长氟化氩激光光刻机的极限了，32纳米制程则遇到非常严重的光干涉物理现象。
当然在理论上，使用多重曝光技术，是可以完成32纳米制程的光刻，但理论上用32纳米制程，制造只有两千万晶体管的armv6处理器，需要的掩膜版多达一百多张，工序多达三百多道。
此时光刻的效率将严重降低，更别说三百多道工序，将使良品率降低到1‰以下，而造出一块32纳米制程的合格芯片，跟中大奖差不多，没有探索的意义了。
这些测试数据，小赵老师还是比较满意的，45纳米制程是极限。
而在商用上，130纳米制程还是可以保证效率和良品率的，但商用90纳米制程还需要探索。
屈庆麟总师眼光还是比较毒的，他对小赵老师说：“赵总，我们的光刻机是厉害，不过finfet半导体结构才是神，我在德州仪器的时候，新制程需要的攻关的技术可多了，可finfet技术能从一微米制程直接过渡到45纳米……”
屈庆麟伸出手指头边数边说：“一微米，800纳米，500纳米，350纳米……65纳米……45纳米，好家伙，制程提升了十代，半导体结构不变，赵总啊，你这是一招吃遍天下鲜，这finfet半导体结构可真神了！”
屈总师是海外归国人才，在ibm、德州仪器都待过不少年，湾岛出身，加州大学伯克利分校毕业，当然，能进这里，已经审查过很多次了，没有问题。
而赵国庆被屈总师刚才说的话，刺激的心虚，说实话，要是有人认真研究华国这些年在半导体上面的发展的话，他们可以发现，华国的半导体技术是跳跃式发展的。
一个finfet结构，在外人眼里，或许可以归结为走了狗屎运吧，不过在半导体从业人员眼里就不一样，小赵老师已经不是带着大家前进的火车头了，而是火箭头。
但赵国庆不以为意，他说：“这次193纳米步进式光刻机是重大的技术突破，不过国际上技术日新月异，我们也不能懈怠，后续102所光刻机研究室主要工作就是继续研发更稳定的工台系统，其次就是……双工台步进式光刻机……要提上日程！”
屈庆麟第一次听到双工台这个名字，字面上的意思是两個工台，至于什么概念他不知道，但从小赵老师嘴里说出来，肯定是了不得的东西，他疑惑的说：“赵所长，什么叫双工台？”
赵国庆说：“光刻机工作的时候，用在校准上需要十分钟，而光刻上同样需要数十钟，但如果晶圆在一个工台上光刻的同时，另一个工台上的晶圆进行校准是不是可以把这个时间节省出来，晶圆在光刻完成后，另一个晶圆校准好正好可以光刻……”
“……”屈庆麟眉头微皱，仔细思索一番，便了解其中妙处，双工台，一个校准，一个光刻，效率将显著提高，要是良品率可以保证的话，最直接的效果就是产量可以显著上升，而芯片的成本可以继续下探。
赵国庆看屈庆麟一脸难色，笑道：“怎么，怕了？”
屈庆麟摇摇头说：“单工台还没有玩明白呢！赵总，现在研发双工台，是不是有点早？”
“确实，单工台技术主要是吸收asml的技术，有些技术我们只是会做，但不明白为什么asml这么设计！”赵国庆顿了顿说：“但继续深入单工台研究，不影响双工台研究，至少可以做一些前期的探索研究吧！”
屈庆麟说：“赵总，你这么看好双工台技术吗？”
小赵老师点点头，他已经很久没有人质疑他的决定了。
(本章完)
102所与沪市微电子研究所，加上全国三十七个科研单位、六十二个工厂，总共有两千余人参与研发制造，加上与asml交流的关键工台技术，历经六年时间，拆了六台光刻机，总投入高达数十亿美元，终于结出丰硕的成果。
1993年11月，193纳米氟化氩激光光刻机完成技术攻关。并通过国家论证。
型号有两款，代号分别为gk193bj型和gk193ty型。
gk193ty型为投影式光刻机，主要研发单位是沪市微电子研究所，工台关键技术是逆向asml pa3000光刻机，光源使用的是102所提供的氟化氩激光光源，透镜系统也是102所所设计制造的。
gk193ty型投影式光刻机优点是精度高，投影准确，控制性好，但缺点是效率不高，完成一块晶圆的光刻过程，需要的时间是步进式光刻机的数十倍。
在商用上面，投影式光刻机属于淘汰的技术，不过在不计较成本的军用上，或者高性能大型计算机上面，尚有用武之地。
而gk193bj步进式光刻机，主要技术来自与asml、西门子以及飞利浦交流的技术，主要研发单位是102所。
与投影式光刻机相反的是，步进式光刻机最大的好处就是在牺牲一定的稳定，保证良品率的前提下，具备相当高的光刻效率，最适合商用化，可以显著降低芯片的成本……
新光刻机的测试早就开始了，试验的制程是130纳米，finfet半导体结构，直接光刻。
而gk193ty投影式光刻机尚能保持42%的良品率。
用多重曝光技术探索65纳米制程，gk193bj步进式光刻机已经很无力了，良品率再次崩塌式下降，一块三英寸晶圆，几百块芯片，碰巧有一两块合格，良品率已经不足1%！
用130纳米制程制造的armv6处理器，速度直接飙升了1.5ghz，直接冲破了1ghz速度的大关。
甚至在45纳米制程上，步进式光刻机已经无用了，但gk193ty投影式光刻机仍然可以达到14%的良品率。
102所技术攻关团队继续向90纳米制程探索，gk193bj步进式光刻机成功完成90纳米制程的探索，不过良品率直接降到了32%。
而使用gk193ty投影式光刻机，完成90纳米制程的光刻，良品率可以上升两倍，达到67%。
事实证明finfet半导体结构，具备优良的物理性能，根本不需要改变就可以直接应用到130纳米。
45纳米制程已经是193纳米波长氟化氩激光光刻机的极限了，32纳米制程则遇到非常严重的光干涉物理现象。
当然在理论上，使用多重曝光技术，是可以完成32纳米制程的光刻，但理论上用32纳米制程，制造只有两千万晶体管的armv6处理器，需要的掩膜版多达一百多张，工序多达三百多道。
此时光刻的效率将严重降低，更别说三百多道工序，将使良品率降低到1‰以下，而造出一块32纳米制程的合格芯片，跟中大奖差不多，没有探索的意义了。
这些测试数据，小赵老师还是比较满意的，45纳米制程是极限。
而在商用上，130纳米制程还是可以保证效率和良品率的，但商用90纳米制程还需要探索。
屈庆麟总师眼光还是比较毒的，他对小赵老师说：“赵总，我们的光刻机是厉害，不过finfet半导体结构才是神，我在德州仪器的时候，新制程需要的攻关的技术可多了，可finfet技术能从一微米制程直接过渡到45纳米……”
屈庆麟伸出手指头边数边说：“一微米，800纳米，500纳米，350纳米……65纳米……45纳米，好家伙，制程提升了十代，半导体结构不变，赵总啊，你这是一招吃遍天下鲜，这finfet半导体结构可真神了！”
屈总师是海外归国人才，在ibm、德州仪器都待过不少年，湾岛出身，加州大学伯克利分校毕业，当然，能进这里，已经审查过很多次了，没有问题。
而赵国庆被屈总师刚才说的话，刺激的心虚，说实话，要是有人认真研究华国这些年在半导体上面的发展的话，他们可以发现，华国的半导体技术是跳跃式发展的。
一个finfet结构，在外人眼里，或许可以归结为走了狗屎运吧，不过在半导体从业人员眼里就不一样，小赵老师已经不是带着大家前进的火车头了，而是火箭头。
但赵国庆不以为意，他说：“这次193纳米步进式光刻机是重大的技术突破，不过国际上技术日新月异，我们也不能懈怠，后续102所光刻机研究室主要工作就是继续研发更稳定的工台系统，其次就是……双工台步进式光刻机……要提上日程！”
屈庆麟第一次听到双工台这个名字，字面上的意思是两個工台，至于什么概念他不知道，但从小赵老师嘴里说出来，肯定是了不得的东西，他疑惑的说：“赵所长，什么叫双工台？”
赵国庆说：“光刻机工作的时候，用在校准上需要十分钟，而光刻上同样需要数十钟，但如果晶圆在一个工台上光刻的同时，另一个工台上的晶圆进行校准是不是可以把这个时间节省出来，晶圆在光刻完成后，另一个晶圆校准好正好可以光刻……”
“……”屈庆麟眉头微皱，仔细思索一番，便了解其中妙处，双工台，一个校准，一个光刻，效率将显著提高，要是良品率可以保证的话，最直接的效果就是产量可以显著上升，而芯片的成本可以继续下探。
赵国庆看屈庆麟一脸难色，笑道：“怎么，怕了？”
屈庆麟摇摇头说：“单工台还没有玩明白呢！赵总，现在研发双工台，是不是有点早？”
“确实，单工台技术主要是吸收asml的技术，有些技术我们只是会做，但不明白为什么asml这么设计！”赵国庆顿了顿说：“但继续深入单工台研究，不影响双工台研究，至少可以做一些前期的探索研究吧！”
屈庆麟说：“赵总，你这么看好双工台技术吗？”
小赵老师点点头，他已经很久没有人质疑他的决定了。
(本章完)